Fujifilm поможет преодолеть кризис дефицита полупроводниковой отрасли
Японская компания Fujifilm пообещала значительно увеличить инвестиции в производство материалов для выпуска микросхем. Объём финансирования на расширение и развитие мощностей компании на следующие три года увеличен на 40 % — до 70 млрд иен ($637 млн). Особое внимание направлено на выпуск фоторезиста для сканеров EUV с технологическими нормами менее 5 нм и на расширение выпуска материалов в США.
Fujifilm производит шесть типов материалов, используемых в производстве микросхем, среди которых фоторезисты и растворы для химико-механической полировки кремниевых пластин. Материалы выпускаются на 11 заводах компании в Японии, США, Европе, Южной Корее и Китае. Значительная часть следующего транша инвестиций — до апреля 2024 года — будет направлена на расширение производства и в основном это будет сделано в США.
Прогнозируется, что глобальный рынок фоторезиста для сканеров EUV в 2021 году вырастет примерно на 90 % до $ 51 млн и продолжит расти более чем на 50 % в год до 2025 года (данные аналитиков Techcet). Ожидается, что в следующие три года сканеры EUV для выпуска 7-нм процессоров начнёт активно использовать компания Intel. Фоторезист для техпроцессов с нормами до 7 нм уже обкатан на производствах TSMC и Samsung. Он также подходит и для выпуска 5-нм чипов, хотя уровень брака может быть выше. Для удовлетворении этого спроса Fujifilm и наращивает мощности. В том числе, компания планирует инвестировать 4,5 млрд иен в свой завод в префектуре Сидзуока, чтобы уже в этом году начать производство фоторезистов EUV.
Рост спроса на полупроводники, обусловленный постковидным дефицитом чипов и расширением потребностей в ИИ и сетях связи нового поколения, позволяет Fujifilm надеяться, что бизнес по производству материалов для выпуска чипов станет одним из ключевых для компании.
Click here to preview your posts with PRO themes ››
По материалам: 3dnews.ru
