Fujifilm поможет преодолеть кризис дефицита полупроводниковой отрасли
Японская компания Fujifilm пообещала значительно увеличить инвестиции в производство материалов для выпуска микросхем. Объём финансирования на расширение и развитие мощностей компании на следующие три года увеличен на 40 % — до 70 млрд иен ($637 млн). Особое внимание направлено на выпуск фоторезиста для сканеров EUV с технологическими нормами менее 5 нм и на расширение выпуска материалов в США.
Fujifilm производит шесть типов материалов, используемых в производстве микросхем, среди которых фоторезисты и растворы для химико-механической полировки кремниевых пластин. Материалы выпускаются на 11 заводах компании в Японии, США, Европе, Южной Корее и Китае. Значительная часть следующего транша инвестиций — до апреля 2024 года — будет направлена на расширение производства и в основном это будет сделано в США.
Прогнозируется, что глобальный рынок фоторезиста для сканеров EUV в 2021 году вырастет примерно на 90 % до $ 51 млн и продолжит расти более чем на 50 % в год до 2025 года (данные аналитиков Techcet). Ожидается, что в следующие три года сканеры EUV для выпуска 7-нм процессоров начнёт активно использовать компания Intel. Фоторезист для техпроцессов с нормами до 7 нм уже обкатан на производствах TSMC и Samsung. Он также подходит и для выпуска 5-нм чипов, хотя уровень брака может быть выше. Для удовлетворении этого спроса Fujifilm и наращивает мощности. В том числе, компания планирует инвестировать 4,5 млрд иен в свой завод в префектуре Сидзуока, чтобы уже в этом году начать производство фоторезистов EUV.
Рост спроса на полупроводники, обусловленный постковидным дефицитом чипов и расширением потребностей в ИИ и сетях связи нового поколения, позволяет Fujifilm надеяться, что бизнес по производству материалов для выпуска чипов станет одним из ключевых для компании.
По материалам: 3dnews.ru
